Semtech תשקיע בשריון קיבולת ייעודית בטכנולוגיית סיליקון־גרמניום במפעלי טאואר בישראל, בארה״ב וביפן. ההסכם הרב־שנתי מיועד לתמוך ברכיבים לקישורי נחושת ואופטיקה בתשתיות AI.
טאואר סמיקונדקטור ו־Semtech הודיעו ב־13 באוקטובר על הרחבת שיתוף הפעולה הייצורי ביניהן. במסגרת ההסכם הרב־שנתי תשקיע Semtech בהבטחת קיבולת ייצור ייעודית בטכנולוגיית סיליקון־גרמניום (SiGe) של טאואר. הקיבולת תיפרס על פני מפעלי החברה בישראל, בארה״ב וביפן, כחלק ממערך אספקה שנועד לשרת את שוק קישוריות מרכזי הנתונים.
זהו מהלך של הבטחת יכולת ייצור לרכיבים שכבר נמצאים בלב מערכות תקשורת מהירות, ולא הכרזה על הקמת מפעל חדש. Semtech משתמשת בתהליכי ה־SiGe של טאואר למגברי קליטה מסוג TIA, לדרייברים ללייזרים ולמודולטורים ולמשווי אות ליניאריים. הרכיבים האלה מטפלים באות החשמלי בצדדים השונים של קישורים אופטיים וקישורי נחושת, ומסייעים לשמור על שלמות האות כאשר מהירות העברת הנתונים עולה.
הרחבת ההסכם קשורה לגידול בתעבורת הנתונים בתוך אשכולות מחשוב AI וביניהם. תעבורה זו נשענת על קישורים בתוך ארון השרתים, בין ארונות ובין חלקי מרכז הנתונים. לצד רוחב הפס, צריכת החשמל לכל סיבית הופכת לשיקול מרכזי בתכנון מערכות התקשורת. לדברי החברות, משפחת מגברי TIA של Semtech בקצב של 224 גיגה־ביט לשנייה לערוץ כבר מבוססת על תהליך ה־SiGe של טאואר. השתיים מתכננות להמשיך בפיתוח משותף של דורות רכיבים עבור ארכיטקטורות 800G ו־1.6T ולמפת הדרך העתידית של 3.2T.
שיתוף הפעולה בין החברות נמשך כשני עשורים. ההסכם החדש מוסיף לו מרכיב של שריון קיבולת בשלושה אזורי ייצור, ובהם המפעל הישראלי של טאואר במגדל העמק. החברות לא פרסמו את היקף ההשקעה, מספר פרוסות הסיליקון שיוקצו ל־Semtech או את חלוקת הייצור בין האתרים.
